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半绝缘碳化硅衬底
半绝缘碳化硅(SiC)衬底主要用于制造高频微波器件,如高电子迁移率晶体管(HEMT)。相较于传统砷化镓基器件,SiC基射频器件具备高频传输、低信号损耗、高功率容量及优异的热稳定性。采用此类SiC射频器件的通信系统,在信号保真度、功率效率、散热性能以及环境适应性等方面均展现出显著优势,因此被广泛应用于5G/6G基站、相控阵雷达、卫星通信、车联网(V2X)及国防电子系统等领域。
产品介绍

公司半绝缘碳化硅衬底实现高精度面型控制(表面粗糙度Ra < 0.1 nm,翘曲度Warp ≤25 μm,弯曲度Bow ≤15 μm,总厚度变化TTV < 5 μm),保障氮化镓外延层均匀生长;具备超高电阻率特性(≥1E10 Ω·cm),适配高频、低损耗射频器件需求;晶体缺陷密度低,确保5G通信、卫星雷达应用场景下的长期可靠性。